日本光驰离子源镀膜机/蒸发镀膜机/光学光镀机OTFC1800介绍
机械特点:
真空室尺寸:Φ600-1800mm
60点/80点式光学膜厚监控
使用均匀分的高离子电流密度的离子源
搭载双电子,多点和环型坩埚可镀100层以上
利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程
工件架可选择钟罩式或行星式
排气系统可选择扩散泵+低温冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵
设备尺寸:
设备型号 OTFC-1800CBI/DBI
真空室 SUS304, φ1800mm×1920mm (H)
工件架 φ1600mm
工件架转速 10rpm to 30rpm(可变)
光学膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光学膜厚监控仪
波长范围:350nm to 1100nm
反射式或透射式
石英晶振膜厚计 XTC/3+6点式石英晶体传感器
蒸发源 电子2套
离子源 23cmRF离子源
排气系统 机械泵+2个扩散泵+Polycold(或2个冷凝泵)
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