设备名称OTFC-1550CBI/DBI
真空室SUS304, φ1550mm
工件架φ 1550mm
工件架转速10 rpm to 30 rpm (可变)
光学膜厚控制HOM2-R-VIS350A光学膜厚监控仪波长范围:350nm to1100nm反射式/透射式可选
水晶式膜厚计XTC/3+6点式水晶传感器
蒸发源电子枪2套
离子源10cm RF 离子源
排气系统机械泵+1个扩散泵+Polycold(或1个冷凝泵)
性能
达到压力7.0 × 10-5 Pa 以下
排气时间15 分 (大气压 1.3×10-3 Pa)
基板温度最高:350℃
工作条件
设备尺寸4500mm (W)×5500mm (D)×3200mm (H) approx.
电源3相,200v,50/60Hz, 约80KVA
水流量180升/分以上
空气压力0.5MPa 以上
此贴长期有效,联系我时,请说明是从处理网看到的。